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Baoji Shengyuan Metal Material Co., Ltd.

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कोटिंग फिल्म के लिए उच्च घनत्व 99.99% शुद्ध टैंटलम लक्ष्य

कोटिंग फिल्म के लिए उच्च घनत्व 99.99% शुद्ध टैंटलम लक्ष्य

भुगतान प्रकार: L/C,T/T,D/P,Paypal,Money Gram,Western Union
Incoterm: FOB,CFR,CIF,FCA,CPT,CIP
Min. आदेश: 1 Kilogram
प्रसव के समय: 10 दिनों

बुनियादी जानकारी

    मॉडल नं.: SYMT-Tantalum target-Ta1

    आकार: गांठ

    ध्यान केंद्रित करें या नहीं: गैर-ध्यान

    Thickness 1mm Up To 12.7mm: Width Up To 600mmx

    Length Up To 2000mm: Surface Bright,polished

Additional Info

    पैकेजिंग: लकड़ी का बक्सा

    उत्पादकता: 1ton/month

    ब्रांड: Symt

    परिवहन: Ocean,Land,Air

    उद्गम-स्थान: शानक्सी, चीन

    आपूर्ति की क्षमता: 10 Tons per Month

    प्रमाण पत्र: ISO9001

उत्पाद विवरण

टैंटलम लक्ष्य

टैंटलम लक्ष्य शुद्ध टैंटलम सामग्री से बना है, हम हर समय 99.9 5% शुद्धता टैंटलम लक्ष्य प्रदान करते हैं, इसलिए हम आपके उपयोग की भावना के सभी उत्पादों और कार्यों की गुणवत्ता का वादा कर सकते हैं।


कोटिंग फिल्म के लिए उच्च घनत्व 99.99% शुद्ध टैंटलम लक्ष्य

सामग्री: R05200, R05400, R05252 (ता-2.5W), R05255 (ता -10W)

परिपत्र लक्ष्य: 400 मिमी x मोटाई 25 मिमी तक 28 मिमी तक मोटाई 3 मिमी

आयताकार लक्ष्य: मोटाई 1 मिमी तक 12.7 मिमी x चौड़ाई 600 मिमी तक की लंबाई 2000 मिमी तक

शुद्धता:> = 99.9 5% या 99.99%

सतह: चमकदार, पॉलिश

हालत: एनीलेड

हम आपके अनुरोध के अनुसार भी प्रक्रिया कर सकते हैं।

Grade

3N, 3N5, 4N, with Ta 99.99%min

Recrystallization

95%min

Grain size

ASTM 4 or finer

Surface finish

16Rms max. or Ra 0.4 ( RMS64 or better)

Flatness

0.1mm or 0.15% max

Tolerance

+/-0.010" on all dimensions

1. शारीरिक और रासायनिक गुण

(1)। TA1, RO5200

Quantitative analysis

Element

O

Si

H

C

Cr

Cu

Fe

Mg

Mn

Mo

Concentration(≤PPM

100

25

10

30

7

6

15

4

8

10

Element

Ni

Nb

N

Ti

W

Zr

 

 

 

 

Concentration(≤PPM)

5

328

12

10

33

5

 

 

 

 

Purity(Metallic Base) Ta≥99.95%

(2)। RO5252

Quantitative analysis

Element

W

C

N

H

O

Nb

Fe

Ti

Mo

Si

Ni

Concentration(%)

2.0~3.5

0.010

0.010

0.0015

0.015

0.500

0.010

0.010

0.020

0.005

0.010

(3) आरओ 5255

Quantitative analysis

Element

W

C

N

H

O

Nb

Fe

Ti

Mo

Si

Ni

Concentration(%)

9.0~11.0

0.010

0.010

0.0015

0.01

0.100

0.010

0.010

0.020

0.005

0.010

2. आवेदन:

व्यापक रूप से कोटिंग प्रसंस्करण उद्योगों में उपयोग किया जाता है

(1)। चुंबकीय डेटा संग्रहण आवेदन

(2)। इलेक्ट्रॉनिक और अर्धचालक अनुप्रयोग।

(3)। सजावट और कोटिंग अनुप्रयोग। आदि।


99.95% target in stock

factory


3. हमारे ता लक्ष्य का लाभ


उच्च गुणवत्ता वाले ढाला सतह।
- घनत्व वाले सूक्ष्म संरचना के साथ एक समान अनाज लंबे समय तक उपयोग सुनिश्चित करता है।

- व्यावसायिक बिक्री के बाद सेवा

4. पैकेज विवरण:

High Purity Tantalum Target

नमी-सबूत पेपर के साथ पहला पैकेजिंग

क्राफ्टपेपर के साथ दूसरा पैकेजिंग

प्लाईवुड मामले के सभी तरफ फोम प्लास्टिक के साथ तीसरा पैकेजिंग।

अंत में प्लाईवुड मामले में उत्पादों पैकिंग

5. परिवहन:

shipping

टीएनटी, डीएचएल, फेडेक्स, यूपीएस, ईएमएस इत्यादि द्वारा शिपिंग माल

वायु परिवहन द्वारा परिवहन या बीजिंग या शंघाई एयर पोर्ट के लिए परिवहन

प्लाईवुड मामले में उत्पाद

उत्पाद श्रेणियाँ : टैंटलम > टैंटलम पार्ट्स

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